• A
  • A
  • A
  • АБВ
  • АБВ
  • АБВ
  • А
  • А
  • А
  • А
  • А
Обычная версия сайта

Учебная лаборатория телекоммуникационных технологий и систем связи

Публикации
Глава в книге
Влияние наклепа поверхностного слоя сплава состава Fe-8 % Cr на размеры областей когерентного рассеяния по различным кристаллографическим направлениям

Монахов И. С., Удовский А. Л.

В кн.: Труды XXXI Международной конференции «Радиационная физика твердого тела» (Севастополь, 5 - 10 июля 2021 г.). ФГБНУ "НИИ ПМТ", 2021. С. 393-398.

Статья
Effect of Pulsed Plasma Beams on the Structure and Mechanical Properties of the Surface Layer in an Inconel 718 Alloy

Borovitskaya I. V., Demin A. S., Komolova O. A. et al.

Russian Metallurgy (Metally). 2023. Vol. 2023. No. 7. P. 891-898.

Статья
Damage to the Surface Layer of Inconel 718 Alloy by Pulsed Beam-Plasma Flows

Borovitskaya I. V., Demin A. S., Komolova O. A. et al.

Inorganic Materials: Applied Research. 2024. Vol. 15. No. 3. P. 596-605.

Статья
Damage of the Tungsten Surface Layer under Irradiation by Steady-State Ion and Pulsed Beam-Plasma Helium Fluxes

Borovitskaya I. V., Pimenov V. N., Korshunov S. N. et al.

Physics of Atomic Nuclei. 2025. Vol. 88. No. 1. P. S67-S78.

Лаборатория создана в 2015 году и является структурным подразделением Департамента электронной инженерии. Лаборатория представляет собой современную учебную и научную лабораторию, оснащенную универсальными аппаратно-программными платформами NI ELVIS II+, сочетающими в себе программируемые источники питания, функциональный генератор, многоканальный цифровой осциллограф, цифровой мультиметр, объединенные на единой платформе.

Иллюстрация к новости: II Всероссийская научно-практическая конференция по печатным платам: представление нашей инженерной школы на федеральном уровне

II Всероссийская научно-практическая конференция по печатным платам: представление нашей инженерной школы на федеральном уровне

5-6 июня 2026 г. в Москве прошла II Bсероссийская научно-практическая конференция по проектированию, разработке, материалам и технологиям производства печатных плат.

Иллюстрация к новости: МИЭМ ВШЭ и АО «Нанотроника» запускают совместную мастерскую электронного машиностроения

МИЭМ ВШЭ и АО «Нанотроника» запускают совместную мастерскую электронного машиностроения

Под руководством экспертов компании студенты будут решать задачи, связанные с улучшением характеристик устройств для электронного машиностроения. Среди них — моделирование физических и технологических процессов, расчет, конструирование и автоматизация систем, подсистем и элементов технологического и контрольно-измерительного оборудования, сбор данных, метрологические задачи.

Иллюстрация к новости: НИУ ВШЭ вновь возглавил рейтинг вузов с лучшей репутацией у работодателей по версии Forbes

НИУ ВШЭ вновь возглавил рейтинг вузов с лучшей репутацией у работодателей по версии Forbes

Forbes Education опубликовал рейтинг топ-20 российских вузов с лучшей репутацией у работодателей. Как и последние несколько лет, первое место заняла Высшая школа экономики. Репутационный индекс НИУ ВШЭ составил 98 баллов. При этом 67,2% работодателей отметили, что доверяют качеству подготовки в университете, — это на 3% больше, чем в прошлом году.

Иллюстрация к новости: II Bсероссийская научно-практическая конференция по проектированию, разработке, материалам и технологиям производства печатных плат

II Bсероссийская научно-практическая конференция по проектированию, разработке, материалам и технологиям производства печатных плат

Участие в конференции предоставляет возможность оперативно отслеживать изменения государственной политики в сфере электронной промышленности и устанавливать долгосрочные партнëрские отношения между образовательным и научным сообществом, бизнесом и государственными структурами.

Иллюстрация к новости: «Фотоника-2026»

«Фотоника-2026»

С 31 марта по 2 апреля в ВК «Тимирязев Центр» состоялась 20-я юбилейная международная выставка «Фотоника. Мир лазеров и оптики».

Иллюстрация к новости: Конференция «Микроэлектронные системы»

Конференция «Микроэлектронные системы»

МЭС — это ежегодная всероссийская научная конференция с международным участием, являющаяся составляющей Форума «Микроэлектроника».

Иллюстрация к новости: Новая разработка ученых ВШЭ поможет быстрее и дешевле спроектировать надежную электронику

Новая разработка ученых ВШЭ поможет быстрее и дешевле спроектировать надежную электронику

Российские ученые из МИЭМ ВШЭ разработали новый подход к моделированию электротепловых процессов в мощных электронных схемах на печатных платах. Они научились быстро и точно рассчитывать, как нагреваются электронные компоненты во время работы, чтобы заранее предотвращать их перегрев и поломку. Результаты работы опубликованы в журнале Russian Microelectronics.

Иллюстрация к новости: Ученые НИУ ВШЭ примут участие в работе Российско-китайского института фундаментальных исследований

Ученые НИУ ВШЭ примут участие в работе Российско-китайского института фундаментальных исследований

В Китае дан старт работе Российско-китайского института фундаментальных исследований. В его состав вошли исследовательские центры по математике, физике, химии, науках о жизни и науках о Земле, в их работе будут участвовать ученые НИУ ВШЭ. Также в рамках конференции был представлен проект «Россия и Китай: математика» по изданию 100 учебников и монографий в течение десяти лет. Членами редколлегии стали представители НИУ ВШЭ Иван Аржанцев и Сергей Ландо.

Иллюстрация к новости: "О результатах стажировки в Институте функциональных интеллектуальных материалов (Национальный университет Сингапура)"

"О результатах стажировки в Институте функциональных интеллектуальных материалов (Национальный университет Сингапура)"

Иллюстрация к новости: «Электроника России» - в центре индустрии

«Электроника России» - в центре индустрии

25-27 ноября 2025 года в Москве состоялась 4-я Международная выставка-форум «Электроника России».